Dot & Key Skin Care Pollution + Acne Defense Green Clay Mask | Savimask näole salitsüül- ja matcha teega | Vähendab aktiivset aknet | 85g

Selle üksuse kohta See rohelise savi mask pakub intensiivset detoksifitseerivat ravi saaste, vananemise ja akne vastu, et teie nahka loomulikult puhastada. See rohelise savi näopakend toimib loodusliku näopooride puhastaja ja mustpeade eemaldajana ning toimib ka saastevastase maskina, et tühistada saaste mõju nahale ning samal ajal ravida lööke ja plekke. Sisaldab matcha teed ja tamanuõli, mis detoksifitseerib nahka ning pakub täiustatud aknevastast lahendust ja prantsuse rohelist savi, mis kiirendab vananemisvastast protsessi. See mittekomedogeenne näomask, mis hoiab ära saaste mõjust tingitud tuhmi naha, jätab naha energilisemaks, siledaks ja säravaks. Valmistatud ilma ebameeldivate kemikaalideta, Dot & Key tooted on julmusevabad ja sisaldavad looduslikke botaanikaid. Koostisosad: Vesi, kaoliin, glütseriin, bentoniit, prantsuse roheline savi, PEG-8, polüsorbaat 20, PPG-33 butüüleeter, propüleenglükool, salitsüülhape, sidrunhape, kookosglükosiid, Centella Asiatica (Cica) Lehtede ekstrakt, Camellia Sinensis (Matcha tee) Lehtede ekstrakt, Melia Azadirachta (Neem) Lehtede õli, Calophyllum Inophyllum (Tamanu) Seemneõli, Eucalyptus Globulus leheõli, Lactobacillus/pirnimahla fermentatsioonifiltraat (ja) Phellodendron Amurense koore ekstrakt (ja) Salix Alba (Paju) Koore ekstrakt (ja) Rehmannia Chinensise juureekstrakt (ja) Scutellaria Baicalensis juure ekstrakt (ja) Houttuynia Cordata ekstrakt (ja) Glütsiin Soja (Sojaoad) Seemneekstrakt, mentool, fenoksüetanool (ja) Etüülheksüülglütseriin (ja) Oktenidiin HCl, ksantaankummi, stearüüldimetikoon (ja) Oktadetseen, naatriumkaproüül/lauroüüllaktylaat (ja) Trietüültsitraat, dinaatrium-EDTA, IFRA sertifitseeritud allergeenivaba lõhn, CI 77288 Tootja riik : India